为客户提供全面的设备和工艺解决方案

• 薄膜沉积 • 薄膜刻蚀 • 定制设备

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"产品中心
为客户提供全面的设备和工艺解决方案
AVP IBE System
-欧美工业生产证明的、可靠、低成本、高产能的薄膜刻蚀系统
-广泛应用的微、纳器件加工、刻蚀设备
-杰出的薄膜刻蚀均匀性和重复性
-纯物理刻蚀,采用惰性气体为工艺气体,环保、无污染,应用广泛
-低维护、低成本、低CoO
-欧美工业生产证明的、可靠、低成本、高产能的薄膜刻蚀系统
-广泛应用的微、纳器件加工、刻蚀设备
-杰
AVP HR PVD System
-高浓度离子辅助的倾角溅射(Directional Sputtering)
-高速率反应溅射,如Al2O3的沉积速率 > 1nm/s
-优异的薄膜厚度均匀性(1σ<1%),裹覆率(Step Coverage ~50%)
-基片背面氦气冷却,基片温度(<50°C)
-高靶材使用率(>80%)
-高浓度离子辅助的倾角溅射(Directional Sputtering)
-高速率反应溅射,如Al2O3的沉
"支持与服务
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"关于艾微普
为客户提供全面的设备和工艺解决方案
专注打造世界先进水平的高端微纳器件、半导体、及新能源加工设备
公司由美国硅谷企业家团队与国内著名上市企业天通公司(TDG)合作,在浙江海宁创立。公司聚集了多位海内外资深微纳加工及半导体设备、工艺、材料专家,专注打造世界先进水平的高端微纳器件、半导体、及新能源加工设备。

公司的核心技术和产品包括物理气相沉积/磁控溅射(PVD)、离子束刻蚀机(IBE)、反应离子刻蚀机(RIE)等系列MEMS、半导体、新能源器件制造专用设备。公司自创立以来,已经获得几十项国家专利。