AVP IBE System

- 广泛适用所有材料刻蚀，包括RIE难以刻蚀的Au、Pt、Mo等难熔金属、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多层膜、倾斜光栅等。
- 成熟、可靠、低成本、高产能、7/24连续运行的薄膜刻蚀系统
- 欧美工业生产验证的、多种成熟的薄膜刻蚀工艺
- 杰出的薄膜刻蚀均匀性和重复性
- 纯物理刻蚀，采用惰性气体为工艺气体，环保、无污染，应用广泛