产品技术
Product technology
| 产品技术 | 薄膜沉积
AVP 4T PVD SYSTEM
-各种薄膜、精密光学薄膜沉积的解决方案
-各种成熟的、2-8英寸的RF、DC、Pulsed DC、反应等薄膜沉积工艺
-成熟、可靠、低成本、高产能、7/24连续运行的薄膜沉积系统
-广泛应用于欧美光学器件、MEMS、存储等工业界的薄膜沉积
产品参数
AVP 4T PVD SYSTEM
工艺腔体(Process Module)4个8英寸的靶材(通常用于6"晶圆);或2个10英寸的靶材(通常用于8"晶圆)
运输腔体(Transportation Module)BROOKS Marathon™ Express, MX400或MX500,带晶圆位置自动校准器
晶圆上、下载腔体(LoadLock)BROOKS VCE, 可载12片晶圆或定制的样品盒(Cassette)
晶圆尺寸最大8",可定制
批量(batch)一次最多可运行8个6”晶圆;或6个8"晶圆;或定制
磁控枪DC磁控/PDC磁控/RF/RF磁控
在线薄膜厚度监控光谱薄膜厚度仪
靶材电源≤5kW的射频(RF)、或直流(DC)、或脉冲直流(PDC)电源
样品台 
射频偏压、样品清洁(Pre-Clean)1kW射频(RF)电源,
旋转速度0~10 (RPM, 转/分钟)
垂直升降高度0~35毫米
冷却水冷
典型工艺气体Ar, O2, N2 
工艺气体通道2路
工艺腔体真空<3 x 10-8 Torr
工艺腔体真空泵分子泵、水泵、机械泵
自动控制系统DeviceNet/PLC
工业控制软件基于微软WINDOWS的GUI工业控制软件,带远程维护、支持功能