-广泛适用于氧化硅、氮化物、金属、有机薄膜的刻蚀
-ICP产生的高密度等离子体
-可刻蚀8英寸晶圆或9.5英寸基片
-可靠、低...

-欧美工业生产证明的、可靠、低成本、高产能的薄膜刻蚀系统
-广泛应用的微、纳器件加工、刻蚀设备
-杰出的薄膜刻蚀均匀性和重复性
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